窒化シリコン基板の基本的な紹介

1。材料特性

高出力密度：窒化シリコン基質優れた電力供給能力があり、高出力の電子デバイスの適用に適しています。

高い変換効率：電力変換プロセス中、窒化シリコン基質は高い変換効率を維持し、エネルギー損失を減らすことができます。

高温性能：窒化シリコン基板は、高温の安定性が優れており、温度上昇のために性能分解なしに高温環境で長時間安定して働くことができます。

高速：高周波回路では、窒化シリコン基質が低下および高速伝送性能を提供できます。

高い熱伝導率：窒化シリコン基質は熱伝導率が高く、過熱による電子機器の損傷を避けるために熱を効果的に輸出できます。

Low thermal expansion coefficient: This helps to maintain the stability and reliability of the circuit and reduce thermal stress caused by temperature changes.

高い熱衝撃耐性：急速な温度変化を伴う環境で構造的完全性を維持できます。

優れた機械的特性：窒化アルミニウムと酸化アルミニウムの2倍以上。

2。アプリケーションフィールド

電子回路基板：窒化シリコン基質は、特に高温、高周​​波、高出力密度が必要な状況では、電子回路基板の分野で広く使用されています。

統合回路：統合回路の基質材料として、安定したサポートと熱散逸機能を提供します。

新しいエネルギー車：窒化シリコン基板は、新しいエネルギー車両の電力変換および駆動システムに重要な役割を果たします。

航空宇宙：その優れた高温抵抗と機械的特性により、窒化シリコン基質も航空宇宙分野で使用されています。

鉄道輸送：鉄道輸送の電力システムでは、窒化シリコン基質にも幅広いアプリケーションの見通しがあります。

3。市場の見通し

市場の需要の成長：電気自動車やスマートフォンなどの電子製品の急速な普及、および5G通信、照明市場、その他の分野の急速な発展により、窒化シリコン基板の市場需要が増加し続けています。

技術の革新と進歩：窒化シリコンの基質技術の継続的な革新と進歩により、そのパフォーマンスはさらに向上し、市場での普及と応用を促進します。

コスト削減：窒化シリコンの製造コストは現在比較的高く、技術の継続的な進歩と市場の継続的な拡大により、その製造コストは徐々に減少すると予想されます。